YSZ/Si 薄膜界面へのSiOx層生成過程のTEMによるその場観察

論文・著書情報

タイトル

和文:	YSZ/Si 薄膜界面へのSiOx層生成過程のTEMによるその場観察
英文:	SiOx formation process between YSZ and Si substrate in YSZ/Si thin films by in-situ TEM analysis

著者

和文:	木口賢紀, 脇谷尚樹, 篠崎和夫, 水谷惟恭.
英文:	木口賢紀, 脇谷尚樹, 篠崎和夫, 水谷惟恭.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:	第20回電子材料研究討論会予稿集
英文:	Extended Abstracts of The 20th Electronics Division Meeting

巻, 号, ページ

No. 2PB23 pp. 127

出版年月

2000年

出版者

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会議名称

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開催地

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