Fabrication and characterization of Pt/(Bi,La)4Ti3O12/Si3N4/Si metal-ferroelectric-insulator-semiconductor structure for FET-type ferroelectric memory applications

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Fabrication and characterization of Pt/(Bi,La)₄Ti₃O₁₂/Si₃N₄/Si metal-ferroelectric-insulator-semiconductor structure for FET-type ferroelectric memory applications

著者

和文:	T.Kijima, Y.Fujisaki, H.Ishiwara.
英文:	T.Kijima, Y.Fujisaki, H.Ishiwara.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Jpn. J. Appl. Phys.

巻, 号, ページ

Vol. 40 No. 4B pp. 2977-2982

出版年月

2001年

出版者

和文:
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会議名称

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開催地

和文:
英文: