Low voltage operation of nonvolatile metal-ferroelectric-metal-insulator-semiconductor(MFMIS)-field-effect-transistors(FETs) using Pt/SrBi2Ta2O9/Pt/SrTa2O6/SiON/Si structures

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Low voltage operation of nonvolatile metal-ferroelectric-metal-insulator-semiconductor(MFMIS)-field-effect-transistors(FETs) using Pt/SrBi₂Ta₂O₉/Pt/SrTa₂O₆/SiON/Si structures

著者

和文:	E.Tokumitsu, K.Okamoto, H.Ishiwara.
英文:	E.Tokumitsu, K.Okamoto, H.Ishiwara.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Jpn. J. Appl.Phys.

巻, 号, ページ

Vol. 40 No. 4B pp. 2911-2916

出版年月

2001年

出版者

和文:
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会議名称

和文:
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開催地

和文:
英文: