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論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:High-performance metal-ferroelectric-insulator-semiconductor structure with a damage-free and hydrogen-free sillicon-nitride buffer layer 
著者
和文: Y.Fujisaki, T.Kijima, H.Ishiwara.  
英文: Y.Fujisaki, T.Kijima, H.Ishiwara.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文:Appl. Phys. Lett. 
巻, 号, ページ Vol. 78    No. 9    pp. 1285-1287
出版年月 2001年 
出版者
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会議名称
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開催地
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