Fabrication and characterization of metal-ferroelectric-metal-insulator-semiconductor (MFMIS) structure using ferroelectric (Bi,La)4Ti3O12 films

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Fabrication and characterization of metal-ferroelectric-metal-insulator-semiconductor (MFMIS) structure using ferroelectric (Bi,La)₄Ti₃O₁₂ films

著者

和文:	E.Tokumitsu, T.Isobe, T.Kijima, H.Ishiwara.
英文:	E.Tokumitsu, T.Isobe, T.Kijima, H.Ishiwara.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Jpn. J. Appl. Phys

巻, 号, ページ

Vol. 40 No. 9B pp. 5576-5578

出版年月

2001年

出版者

和文:
英文:

会議名称

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開催地

和文:
英文: