Home >

news ヘルプ

論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:High performance buffer layer suitable for metal-ferroelectric-insulator-semicondoctor transistor with low voltage operation 
著者
和文: Y.Fujisaki, T.Kijima, K.Aizawa, S.Ogasawara, H.Ishiwara.  
英文: Y.Fujisaki, T.Kijima, K.Aizawa, S.Ogasawara, H.Ishiwara.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文:1st Intern. Meeting on Ferroelectric Random Access Memories, Gotemba 
巻, 号, ページ     No. P61    pp. 198-199
出版年月 2001年 
出版者
和文: 
英文: 
会議名称
和文: 
英文: 
開催地
和文: 
英文: 

©2007 Institute of Science Tokyo All rights reserved.