A Positive-working Alkaline Developable Photoresist Based on Partially tert-Protected Calix[4]resorcinarene and A Photoacid Generator

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	A Positive-working Alkaline Developable Photoresist Based on Partially tert-Protected Calix[4]resorcinarene and A Photoacid Generator

著者

和文:	K. Y-Gill, J-B. Kim, T. Fujigaya, Y. Shibasaki, M. Ueda.
英文:	K. Y-Gill, J-B. Kim, T. Fujigaya, Y. Shibasaki, M. Ueda.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	J.Mater. Chem.

巻, 号, ページ

Vol. 12 pp. 53-57

出版年月

2002年

出版者

和文:
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会議名称

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開催地

和文:
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