希土類酸化物安定化ジルコニアエピタキシャルゲート絶縁膜のC-V特性向上と界面反応抑制

論文・著書情報

タイトル

和文:	希土類酸化物安定化ジルコニアエピタキシャルゲート絶縁膜のC-V特性向上と界面反応抑制
英文:	Improvement of C-V characteristics and control of interlayer growth of rare earth oxide stabilized zirconia epitaxial gate dielectrics

著者

和文:	木口賢紀, 脇谷尚樹, 篠崎和夫, 水谷惟恭.
英文:	Takanori Kiguchi, Naoki Wakiya, Kazuo Shinozaki, Nobuyasu Mizutani.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:	第22回電子材料研究討論会予稿集
英文:	Extended Abstracts of The 22th Electronics Division Meeting

巻, 号, ページ

No. 1B02 pp. 23

出版年月

2002年10月

出版者

和文:	第２２回電子材料研究討論会予稿集
英文:	Extended Abstracts of The 22th Electronics Division Meeting

会議名称

和文:	第22回電子材料研究討論会
英文:

開催地

和文:	川崎
英文: