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論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:Growth and Characterization of CoSi2 films on Si (100) substrates 
著者
和文: F. Takahashi, T. Irie, J. Shi, M. Hashimoto.  
英文: F. Takahashi, T. Irie, J. Shi, M. Hashimoto.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文:Applied Surface Science 
巻, 号, ページ Vol. 169-170        pp. 315
出版年月 2001年 
出版者
和文: 
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会議名称
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開催地
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英文: 

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