GaN etching by simultaneous irradiation of KrF excimer laser and F<sub>2</sub> laser

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	GaN etching by simultaneous irradiation of KrF excimer laser and F₂ laser

著者

和文:	Akane T., Sugioka K., Obata K., Nomura S., Hmmura K., Aoki N., Toyoda K., Aoyagi Y., Mikorikawa K..
英文:	Akane T., Sugioka K., Obata K., Nomura S., Hmmura K., Aoki N., Toyoda K., Aoyagi Y., Mikorikawa K..

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	(LASE 2001), (SPIE), San Jose, USA

巻, 号, ページ

Vol. 4274 pp. 133

出版年月

2001年

出版者

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会議名称

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開催地

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