全MOCVD成長によるトンネル接合埋め込み電流狭窄構造

論文・著書情報

タイトル

和文:	全MOCVD成長によるトンネル接合埋め込み電流狭窄構造
英文:	All-MOCVD-grown current confinement structure with buried tunnel junction

著者

和文:	関口茂昭, 岡崎玄, 宮本智之, 小山二三夫, 伊賀健一.
英文:	関口茂昭, 岡崎玄, Tomoyuki Miyamoto, FUMIO KOYAMA, Kenichi Iga.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:
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巻, 号, ページ

出版年月

2000年9月

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:	第61回応用物理学会学術講演会
英文:	The 61st Autumn Meeting of The Japan Society of Applied Physics

開催地

和文:	北海道
英文:	Hokkaido