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論文・著書情報


タイトル
和文:GaN系発光デバイスのためのAlNを用いる電流狭窄構造の検討 
英文:Current confinement structure using AlN selective growth for GaN devices 
著者
和文: 内田慶彦, 坂口孝浩, 井上彰, 岩田雅年, 森口雄一郎, 小山二三夫, 伊賀健一.  
英文: 内田慶彦, 坂口孝浩, 井上彰, 岩田雅年, 森口雄一郎, FUMIO KOYAMA, Kenichi Iga.  
言語 Japanese 
掲載誌/書名
和文: 
英文: 
巻, 号, ページ         30p-M-11
出版年月 1999年3月 
出版者
和文: 
英文: 
会議名称
和文:第46回応用物理学関連連合講演会 
英文:The 46th Spring Meeting of Japan Society of Applied Physics and Related Societies 
開催地
和文:千葉 
英文:Chiba 

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