Effect of high-pressure oxygen annealing on Bi<sub>2</sub>SiO<sub>5</sub>-added ferroelectric thin films

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Effect of high-pressure oxygen annealing on Bi₂SiO₅-added ferroelectric thin films

著者

和文:	T.Kijima, Y.Kawashima, Y.Idemoto, H.Ishiwara.
英文:	T.Kijima, Y.Kawashima, Y.Idemoto, H.Ishiwara.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Jpn. J. Appl. Phys.

巻, 号, ページ

Vol. 41 No. 10B pp. 1164-1166

出版年月

2002年

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:

開催地

和文:
英文: