Data retention characteristics of metal-ferroelectric-metal-insulator-semiconductor diodes with SrBi2Ta2O9 ferroelectrics and Al2O3 buffer layers

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Data retention characteristics of metal-ferroelectric-metal-insulator-semiconductor diodes with SrBi₂Ta₂O₉ ferroelectrics and Al₂O₃ buffer layers

著者

和文:	S-K.Kang, H.Ishiwara.
英文:	S-K.Kang, H.Ishiwara.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Jpn. J. Appl. Phys

巻, 号, ページ

Vol. 41 No. 4A pp. 2094-2098

出版年月

2002年

出版者

和文:
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会議名称

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開催地

和文:
英文: