The interface quality control in MFIS structures with the use of highly stable Si<sub>3</sub>N<sub>4</sub> buffer layer

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	The interface quality control in MFIS structures with the use of highly stable Si₃N₄ buffer layer

著者

和文:	Y.Fujisaki, H.Ishiwara.
英文:	Y.Fujisaki, H.Ishiwara.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	ONR Workshop on Ferroelectric Semiconductor Interfaces, Kona

巻, 号, ページ

No. 3b-2

出版年月

2002年

出版者

和文:
英文:

会議名称

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開催地

和文:
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