希土類酸化物安定化ジルコニアエピタキシャルゲート絶縁膜のC-V特性向上と界面反応抑制

論文・著書情報

タイトル

和文:	希土類酸化物安定化ジルコニアエピタキシャルゲート絶縁膜のC-V特性向上と界面反応抑制
英文:	Improvement of C-V Characteristics and Control of Interlayer Growth of Rare Earth Oxide Stabilized Zirconia Epitaxial Gate Dielectrics

著者

和文:	木口賢紀, 脇谷尚樹, 篠崎和夫, 水谷惟恭.
英文:	木口賢紀, 脇谷尚樹, 篠崎和夫, 水谷惟恭.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:	日本セラミックス協会電子材料部会第22回電子材料研究討論会講演予稿集
英文:	Extended Abstraccts of the 22nd Electronics Division Meeting

巻, 号, ページ

No. 1B02 pp. 23

出版年月

2002年

出版者

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会議名称

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開催地

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