Low temperature poly-SixGe1-x deposited by reactive thermal CVD for thin film transistor application

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Low temperature poly-SixGe1-x deposited by reactive thermal CVD for thin film transistor application

著者

和文:	JianJun Zhang, Kousaku Shimizu, Jun-ichi Hanna.
英文:	JianJun Zhang, Kousaku Shimizu, Jun-ichi Hanna.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	J. Non-Cryst.Solids

巻, 号, ページ

Vol. 299-302 pp. 163-167

出版年月

2002年

出版者

和文:
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会議名称

和文:
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開催地

和文:
英文: