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論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:Al2O3/Si3N4 stacked insulator for advanced MOS devices 
著者
和文: Y.Fujisaki, K.Iseki, H.Ishiwara.  
英文: Y.Fujisaki, K.Iseki, H.Ishiwara.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文:Fall Meeting of Mat. Res. Soc. 
巻, 号, ページ     No. N2.9   
出版年月 2002年 
出版者
和文: 
英文: 
会議名称
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開催地
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英文: 

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