Taドーピングによる希土類安定化ZrO2ゲート絶縁膜のSiO2層成長の抑制

論文・著書情報

タイトル

和文:	Taドーピングによる希土類安定化ZrO2ゲート絶縁膜のSiO2層成長の抑制
英文:	Improvement of SiO2 interface structure of rare earth element stabilized ZrO2 gate dielectric by doping with Ta

著者

和文:	木口賢紀, 脇谷尚樹, 篠崎和夫, 水谷惟恭.
英文:	Takanori Kiguchi, Naoki Wakiya, Kazuo Shinozaki, Nobuyasu Mizutani.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:	2003年日本セラミックス協会年会予稿集
英文:	Extended Abstract of Annual Meeting of the Ceramics Society of Japan 2003

巻, 号, ページ

No. 2k10 pp. 284

出版年月

2003年3月

出版者

和文:	2003年日本セラミックス協会年会予稿集
英文:	Extended Abstract of Annual Meeting of the Ceramics Society of Japan 2003

会議名称

和文:	2003年日本セラミックス協会年会
英文:

開催地

和文:	都立大学　南大沢
英文: