ジルコニアゲート絶縁膜の構造劣化過程のその場観察

論文・著書情報

タイトル

和文:	ジルコニアゲート絶縁膜の構造劣化過程のその場観察
英文:	In-situ TEM investigation of structure degrade process in zirconia gate dielectrics

著者

和文:	木口賢紀, 脇谷尚樹, 篠崎和夫, 水谷惟恭.
英文:	木口賢紀, 脇谷尚樹, 篠崎和夫, 水谷惟恭.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:	日本顕微鏡学会第５９回年会予稿集
英文:	Proceedings of the 59th Annual Meeting of the Japanese Society of Microscope

巻, 号, ページ

Vol. 38 No. Supplement1 pp. 22

出版年月

2003年6月

出版者

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会議名称

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開催地

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