エピタキシャル薄膜における残留応力評価のためのX線応力測定法の開発 | T2R2 東京科学大学リサーチリポジトリ

論文・著書情報

タイトル

和文:	エピタキシャル薄膜における残留応力評価のためのX線応力測定法の開発
英文:

著者

和文:	内田　寛, 木口賢紀, 脇谷尚樹, 篠崎和夫, 水谷惟恭.
英文:	内田　寛, 木口賢紀, 脇谷尚樹, 篠崎和夫, 水谷惟恭.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:	第１４回日本セラミックス協会関東支部研究発表会予稿集
英文:

巻, 号, ページ

No. 1A08 pp. 13-14

出版年月

1998年7月

出版者

和文:	第１４回日本セラミックス協会関東支部研究発表会予稿集
英文:

会議名称

和文:
英文:

開催地

和文:	桐生
英文:

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