Effect of Deposition Temperature on the Characteristics of Hafnium Oxide Films Deposited by MOCVD using Amide Precursor

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Effect of Deposition Temperature on the Characteristics of Hafnium Oxide Films Deposited by MOCVD using Amide Precursor

著者

和文:	Kenji Takahashi, Hiroshi Funakubo, Shiro Hino, Makoto Nakayama, Naoki Oohashi, Takanori Kiguchi, Eisuke Tokumitsu.
英文:	Kenji Takahashi, Hiroshi Funakubo, Shiro Hino, Makoto Nakayama, Naoki Oohashi, Takanori Kiguchi, Eisuke Tokumitsu.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Journal of Material Research

巻, 号, ページ

Vol. 19 No. 2 pp. 584-589

出版年月

2004年2月

出版者

和文:
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会議名称

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開催地

和文:
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