MOCVDによるチタン酸鉛薄膜の成膜過程における残留応力発生の機構

論文・著書情報

タイトル

和文:	MOCVDによるチタン酸鉛薄膜の成膜過程における残留応力発生の機構
英文:	Mechanism of residual strain generation during deposition process of lead titanate thin film by MOCVD

著者

和文:	内田寛, 木口賢紀, 脇谷尚樹, 篠崎和夫, 水谷惟恭.
英文:	Takanori Kiguchi, Naoki Wakiya, Kazuo Shinozaki, Nobuyasu Mizutani, 水谷惟恭.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:	日本セラミックス協会2000年年会予稿集
英文:

巻, 号, ページ

No. 2D35 pp. 182

出版年月

2000年3月

出版者

和文:	日本セラミックス協会2000年年会予稿集
英文:

会議名称

和文:	日本セラミックス協会2000年年会
英文:

開催地

和文:	東北大学　仙台
英文: