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論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:Enhanced Growth Mechanism in Lateral Solid-Phase Epitaxy of Si Films Simultaneously Doped With P and Ge Atoms 
著者
和文: 石原宏.  
英文: HIROSHI ISHIWARA.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文:Japanese Journal of Applied Physics 
巻, 号, ページ Vol. 35    No. 3    pp. 1605
出版年月 1996年 
出版者
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会議名称
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開催地
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