Ferroelectric-gate structures using ferroelectric (Sr,Sm)Bi2Ta2O9 films with Al2O3/Si3N4 buffer layer

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Ferroelectric-gate structures using ferroelectric (Sr,Sm)Bi₂Ta₂O₉ films with Al₂O₃/Si₃N₄ buffer layer

著者

和文:	E.Tokumitsu, M.Kishi, K.Iseki, Y.Fujisaki, H.Ishiwara.
英文:	E.Tokumitsu, M.Kishi, K.Iseki, Y.Fujisaki, H.Ishiwara.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	2003 Asia-Pacific Workshop on Fundamental and Application of Advanced Semiconductor Devices

巻, 号, ページ

出版年月

2003年

出版者

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会議名称

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開催地

和文:
英文: