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論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:Open-air silicon etching by H2-He-CH4 flowing cold plasma 
著者
和文: K. Chaudhary, K. Inomata, M. Yoshimoto, H. Koinuma.  
英文: K. Chaudhary, K. Inomata, M. Yoshimoto, H. Koinuma.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文:Materials Letters 
巻, 号, ページ Vol. 57        pp. 3406-3411
出版年月 2003年 
出版者
和文: 
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会議名称
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開催地
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英文: 

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