YSZ/SiOx/Si薄膜のエピタキシャル成長におけるSi酸化膜の重要性

論文・著書情報

タイトル

和文:	YSZ/SiOx/Si薄膜のエピタキシャル成長におけるSi酸化膜の重要性
英文:	Importance of Si oxide layer on epitaxial growth of YSZ/SiOx/Si film

著者

和文:	木口賢紀, 脇谷尚樹, 篠崎和夫, 水谷惟恭.
英文:	木口賢紀, 脇谷尚樹, 篠崎和夫, 水谷惟恭.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:	第２０回日本セラミックス協会関東支部研究発表会
英文:	The 20th Ceramic Research Conference of Kanto Branch

巻, 号, ページ

No. 2A04 pp. 67-68

出版年月

2004年7月

出版者

和文:	第２０回日本セラミックス協会関東支部研究発表会
英文:	The 20th Ceramic Research Conference of Kanto Branch

会議名称

和文:
英文:

開催地

和文:	埼玉
英文: