Chemical vapor deposition of Ru bottom electrode for ferroelectric Bi4-XLaXTi3O12 capacitors

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Chemical vapor deposition of Ru bottom electrode for ferroelectric Bi_4-XLa_XTi₃O₁₂ capacitors

著者

和文:	T.Furukawa, T.Kuroiwa, Y.Fujisaki, T.Sato, H.Ishiwara.
英文:	T.Furukawa, T.Kuroiwa, Y.Fujisaki, T.Sato, H.Ishiwara.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Integrated Ferroelectrics

巻, 号, ページ

Vol. 59 pp. 1437-1443

出版年月

2003年

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:

開催地

和文:
英文: