CVD HfO<sub>2</sub>薄膜をバッファ層に用いたSBT/HfO<sub>2</sub>/p-Si構造の作製と評価 | T2R2 東京科学大学リサーチリポジトリ

論文・著書情報

タイトル

和文:	CVD HfO₂薄膜をバッファ層に用いたSBT/HfO₂/p-Si構造の作製と評価
英文:

著者

和文:	會澤康治, 高橋憲弘, 田村哲朗, 有本由弘, 石原宏.
英文:	會澤康治, 高橋憲弘, 田村哲朗, 有本由弘, 石原宏.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:	第65回応用物理学会学術講演会
英文:

巻, 号, ページ

No. 4a-Y-8

出版年月

2004年

出版者

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会議名称

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開催地

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英文:

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