FRマグネトロンスパッタ法によるSi添加SiBi<sub>2</sub>Ta<sub>2</sub>O<sub>9</sub>強誘電体薄膜の作製（３） | T2R2 東京科学大学リサーチリポジトリ

論文・著書情報

タイトル

和文:	FRマグネトロンスパッタ法によるSi添加SiBi₂Ta₂O₉強誘電体薄膜の作製（３）
英文:

著者

和文:	菊池真, 石原宏.
英文:	菊池真, 石原宏.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:	第51回応用物理学関連連合講演会
英文:

巻, 号, ページ

No. 30a-ZL-3

出版年月

2004年

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:

開催地

和文:
英文:

©2007 Institute of Science Tokyo All rights reserved.