Highly Conductive Boron Doped Microcrystalline Si Films Deposited by Hot Wire Cell Method and Its Application to Solar Cells

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Highly Conductive Boron Doped Microcrystalline Si Films Deposited by Hot Wire Cell Method and Its Application to Solar Cells

著者

和文:	S. Miyajima, M. Kim, Y. Ide, A. Yamada, M. Konagai.
英文:	S. Miyajima, M. Kim, Y. Ide, A. Yamada, M. Konagai.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Jpn. J. Appl. Phys

巻, 号, ページ

Vol. 42 No. 6A pp. 3328-3332

出版年月

2003年

出版者

和文:
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会議名称

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開催地

和文:
英文: