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論文・著書情報


タイトル
和文:反応性熱CVD法による高温領域での多結晶SiGe薄膜の堆積 
英文: 
著者
和文: 辻 隆久, 清水耕作, 半那純一.  
英文: 辻 隆久, 清水耕作, 半那純一.  
言語 Japanese 
掲載誌/書名
和文:第65回応用物理学会学術講演会 講演予稿集 No.2 
英文: 
巻, 号, ページ         pp. 803
出版年月 2004年 
出版者
和文: 
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会議名称
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開催地
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英文: 

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