MOCVD法による堆積膜／SiCの作製と評価

論文・著書情報

タイトル

和文:	MOCVD法による堆積膜／SiCの作製と評価
英文:

著者

和文:	日野史郎, 畑山智裕, 徳光永輔, 三浦成久, 大森達夫.
英文:	Shiro Hino, Tomohiro Hatayama, Eisuke Tokumitsu, Ｎaruhisa Miura, Tatsuo Oomori.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

Vol. 106 No. 108 pp. 1-5

出版年月

2006年6月

出版者

和文:
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会議名称

和文:	信学技報, 応用物理学会分科会シリコンテクノロジー, IEICE Technical Report、SDM2006-42
英文:

開催地

和文:
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