Characterization of Hafnium Oxide Thin Films by Sorce Gas Pulse Introduced Metalorganic Chemical Vapor Deposition using Amino-Family Hf Precursors

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Characterization of Hafnium Oxide Thin Films by Sorce Gas Pulse Introduced Metalorganic Chemical Vapor Deposition using Amino-Family Hf Precursors

著者

和文:	日野史郎, 中山誠, 高橋健二, 舟窪浩, 徳光永輔.
英文:	Shiro Hino, Makoto Nakayama, Kenji Takahashi, Hiroshi Funakubo, Eisuke Tokumitsu.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Jpn. J. Appl. Phys.

巻, 号, ページ

Vol. 42, Part 1 No. 9B pp. 6015-6018

出版年月

2003年9月

出版者

和文:
英文:

会議名称

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英文:

開催地

和文:
英文: