DEVELOPMENT OF NEW EVALUATION METHOD FOR ADHESIVE STRENGTH BETWEEN MICROSIZED PHOTORESIST AND Si SUBSTRATE OF MEMS DEVICES

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	DEVELOPMENT OF NEW EVALUATION METHOD FOR ADHESIVE STRENGTH BETWEEN MICROSIZED PHOTORESIST AND Si SUBSTRATE OF MEMS DEVICES

著者

和文:	石山千恵美, 曽根正人, 肥後矢吉.
英文:	Chiemi Ishiyama, Masato Sone, Yakichi Higo.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Key Engineering Materials

巻, 号, ページ

Vol. Vols. 345-346 (2007) pp. 1185-1188

出版年月

2007年5月

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:	国際会議ICM10
英文:

開催地

和文:	釜山BEXCO（韓国）
英文:	Busan Exhibition & Convention Center（Korea)

DOI