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論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:Fabrication and Characterization of M-I-FIS ferroelectric-gate structures using HfAlOx buffer layer 
著者
和文: 徳光 永輔, 高野 友一, 柴田 宏, 斎木 博和.  
英文: E.Tokumitsu, Y.Takano, H.Shibata, H.Saiki.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文:Journal of Microelectronic Engineering 
巻, 号, ページ Vol. 84        pp. 2018-2021
出版年月 2007年6月 
出版者
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会議名称
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開催地
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