SrBi<sub>2</sub>Ta<sub>2</sub>O<sub>9</sub>とHfSiONを強誘電体膜とバッファ層に用いたMFIS-FETの特性評価 | T2R2 東京科学大学リサーチリポジトリ

論文・著書情報

タイトル

和文:	SrBi₂Ta₂O₉とHfSiONを強誘電体膜とバッファ層に用いたMFIS-FETの特性評価
英文:

著者

和文:	鉾宏真, 田渕良志明, 丸山研二, 石原宏.
英文:	鉾宏真, 田渕良志明, 丸山研二, 石原宏.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:	2006年(平成18年）秋季第67回応用物理学会学術講演会
英文:

巻, 号, ページ

Vol. 31a-V-6/II

出版年月

2006年8月

出版者

和文:
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会議名称

和文:
英文:

開催地

和文:	滋賀、立命館大学
英文:

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