SOI基板を用いた歪緩和Si<sub>1-y</sub>C<sub>y</sub>膜の作製 | T2R2 東京科学大学リサーチリポジトリ

論文・著書情報

タイトル

和文:	SOI基板を用いた歪緩和Si_1-yC_y膜の作製
英文:

著者

和文:	村野仁彦, 石原英恵, 山田　明, 小長井　誠.
英文:	村野仁彦, 石原英恵, 山田　明, 小長井　誠.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

pp. 22p-ZE-7

出版年月

2006年

出版者

和文:
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会議名称

和文:	第53回応用物理学関係連合講演会
英文:

開催地

和文:
英文:

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