Straight and smooth etching of GaN (1100) plane by combination of reactive ion etching and KOH wet etching techniques

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Straight and smooth etching of GaN (1100) plane by combination of reactive ion etching and KOH wet etching techniques

著者

和文:	M. Itoh, T. Kinoshita, C. Koike, M. Takeuchi, K. Kawasaki, Y. Aoyagi.
英文:	M. Itoh, T. Kinoshita, C. Koike, M. Takeuchi, K. Kawasaki, Y. Aoyagi.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	JJAP

巻, 号, ページ

Vol. 45 No. 5A pp. 3988-3991

出版年月

2006年

出版者

和文:
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会議名称

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開催地

和文:
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DOI