Development of RF-Facing Targets Sputtering System for Deposition of Oxide Films

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Development of RF-Facing Targets Sputtering System for Deposition of Oxide Films

著者

和文:	Mitsuru Nagasawa, Keisuke Matsuno, Shigeki Nakagawa.
英文:	Mitsuru Nagasawa, Keisuke Matsuno, Shigeki Nakagawa.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Proceedings of the 8th International Symposium on Sputtering & Plasma Processes

巻, 号, ページ

pp. TF 3-4

出版年月

2005年6月

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:	8th International Symposium on Sputtering & Plasma Processes (ISSP2005)

開催地

和文:
英文:	Kanazawa, Ishikawa, Japan