English
Home
各種検索
研究業績検索
論文・著書検索
( 詳細検索 )
特許検索
( 詳細検索 )
研究ハイライト検索
( 詳細検索 )
研究者検索
組織・担当から絞り込む
サポート
よくあるご質問(FAQ)
T2R2登録申請
学位論文登録について
組織単位データ出力について
(学内限定)
サポート・問合せ
T2R2について
T2R2とは?
運用指針
リーフレット
本文ファイルの公開について
関連リンク
東京科学大学
東京科学大学STARサーチ
国立情報学研究所(学術機関リポジトリ構築連携支援事業)
Home
>
ヘルプ
論文・著書情報
タイトル
和文:
英文:
Ultra-Thin Ge-on-Insulator(GOI) Metal S/D p-Channel MOSFETs Fabricated by Low Temperature MBE Growth
著者
和文:
T.Uehara, H.Matsubara,
S.Sugahara
, S.Takagi.
英文:
T.Uehara, H.Matsubara,
S.Sugahara
, S.Takagi.
言語
English
掲載誌/書名
和文:
英文:
巻, 号, ページ
pp. paper H-8-2, pp.1050-1051
出版年月
2006年
出版者
和文:
英文:
会議名称
和文:
英文:
2006 Intl. Conf. on Solid State Devices and Materials (SSDM 2006), Yokohama, Japan,
開催地
和文:
英文:
©2007
Institute of Science Tokyo All rights reserved.