Fabrication of SiO2/Ge MIS Structures by Plasma Oxidation of Ultrathin Si Films Grown on Ge

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Fabrication of SiO2/Ge MIS Structures by Plasma Oxidation of Ultrathin Si Films Grown on Ge

著者

和文:	H.Kumagai, M.Shichijo, H.Ishikawa, T.Hoshii, S.Sugahara, Y.Uchida, S.Takagi.
英文:	H.Kumagai, M.Shichijo, H.Ishikawa, T.Hoshii, S.Sugahara, Y.Uchida, S.Takagi.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

pp. paper J-6-23, pp. 398-399

出版年月

2006年

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:	2006 Intl. Conf. on Solid State Devices and Materials (SSDM 2006), Yokohama, Japan,

開催地

和文:
英文: