Gate Dielectric Formation and MIS Interface Characterization on Ge

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Gate Dielectric Formation and MIS Interface Characterization on Ge

著者

和文:	S.Takagi, T.Maeda, N.Taoka, M.Nishizawa, Y.Morita, K.Ikeda, Y.Yamashita, M.Nishikawa, H.Kumagai, R.Nakane, 菅原聡, N.Sugiyama.
英文:	S.Takagi, T.Maeda, N.Taoka, M.Nishizawa, Y.Morita, K.Ikeda, Y.Yamashita, M.Nishikawa, H.Kumagai, R.Nakane, S.Sugahara, N.Sugiyama.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	The 15th Biennial Conf. on Insulatring Films on Semiconductors (INFOS2007)

巻, 号, ページ

pp. 2314-2319

出版年月

2007年6月

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:	The 15th Biennial Conf. on Insulatring Films on Semiconductors (INFOS2007), Athene, Greece,

開催地

和文:
英文: