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論文・著書情報


タイトル
和文:Ge上極薄膜Siのプラズマ酸化によるSiO2/Ge MISキャパシタの作製と界面特性評価 
英文: 
著者
和文: 熊谷寛, 七条真人, 石川寛人, 星井拓也, 菅原聡, 高木信一.  
英文: 熊谷寛, 七条真人, 石川寛人, 星井拓也, 菅原聡, 高木信一.  
言語 Japanese 
掲載誌/書名
和文: 
英文: 
巻, 号, ページ         pp. 177-182
出版年月 2006年 
出版者
和文: 
英文: 
会議名称
和文:応用物理学会薄膜・表面物理分科会シリコンテクノロジー分科会共催特別研究会「ゲートスタック研究会―材料・プロセス・評価の物理―」第11回研究会, 三島, 
英文: 
開催地
和文: 
英文: 

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