Electron beam lithography for non self-aligned HBTs with extreamly narrow emitter mesa

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Electron beam lithography for non self-aligned HBTs with extreamly narrow emitter mesa

著者

和文:	T. Kai, Y. Fukuyama, Y. Miyamoto, K. Furuya, K. Kurishima, S. Yamahata.
英文:	T. Kai, Y. Fukuyama, Y. Miyamoto, K. Furuya, K. Kurishima, S. Yamahata.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

Vol. 26A-4-4

出版年月

2006年

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:	2006 International Microprocesses and Nanotechnology Conference

開催地

和文:
英文:	Kamakura