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論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:Electrical Properties of Metal-Ferroelectric-Insulator-Semiconductor(MFIS)-and Metal-Ferroelectric-Metal-Insulator-Semiconductor (MFMIS)-FETs Using Ferroelectric SrBi2Ta2O9 Film and SrTa2O6/SiON Buffer Layer 
著者
和文: 徳光 永輔, 藤井 厳, 石原宏.  
英文: Eisuke TOKUMITSU, Gen FUJII, Hiroshi ISHIWARA.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文:Jpn. J. Appl. Phys. 
巻, 号, ページ Vol. 39    No. 4B    pp. 2125-2130
出版年月 2000年4月 
出版者
和文: 
英文: 
会議名称
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英文: 
開催地
和文: 
英文: 
DOI https://doi.org/10.1143/JJAP.39.2125

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