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論文・著書情報


タイトル
和文:ダブルパルス励起PLD装置によるSi基板上へのHfO2薄膜の作製 
英文:Fabrication of HfO2 thin film on Si substrate by double-pulse excitation PLD 
著者
和文: 田原知浩, 脇谷尚樹, 木口賢紀, 田中順三, 篠崎和夫.  
英文: 田原知浩, 脇谷尚樹, 木口賢紀, 田中順三, 篠崎和夫.  
言語 Japanese 
掲載誌/書名
和文:（社）日本セラミックス協会 
英文: 
巻, 号, ページ Vol. 2006       
出版年月 2006年10月 
出版者
和文: 
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会議名称
和文:第２６回エレクトロセラミックス研究討論会 
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開催地
和文:東京(東京工業大学) 
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