EXAFS study on poly-Si1 XGeX films prepared by reactive thermal CVD method

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	EXAFS study on poly-Si1 XGeX films prepared by reactive thermal CVD method

著者

和文:	Masatoshi Wakagi, Yoshiki Yonamoto, Kiyoshi Ogata, Kousaku Shimizu, Jun-ichi Hanna.
英文:	Masatoshi Wakagi, Yoshiki Yonamoto, Kiyoshi Ogata, Kousaku Shimizu, Jun-ichi Hanna.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	21th Int. Conf. on Amorphous and Microcrystalline semiconductor

巻, 号, ページ

pp. TO8

出版年月

2005年9月

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:	21th Int. Conf. on Amorphous and Microcrystalline semiconductor

開催地

和文:
英文:	Lisbon, Poltugal