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論文・著書情報


タイトル
和文:極薄酸化膜を用いたAl2O3/SiC-MOSFETのチャネル移動度の向上 
英文: 
著者
和文: 畑山 智裕, 日野史郎, 加藤潤, 徳光永輔, 三浦 成久, 大森 達夫.  
英文: Tomohiro Hatayama, Shiro Hino, Jun Kato, EISUKE TOKUMITSU, Naruhisa Miura, Tatsuo Oomori.  
言語 Japanese 
掲載誌/書名
和文: 
英文: 
巻, 号, ページ     No. 29a-N-3   
出版年月 2007年3月 
出版者
和文: 
英文: 
会議名称
和文:第54回応用物理学関係連合講演会 
英文: 
開催地
和文:青山学院大学相模原キャンパス 
英文: 

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