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論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:Metal-ferroelectric-insulator-Si devices using HfTaO buffer layers 
著者
和文: X-B Lu, K. Maruyama, 石原 宏.  
英文: X-B Lu, K. Maruyama, H. Ishiwara.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文:Semicond. Sci. Technol. 
巻, 号, ページ Vol. 23        p. 045002 (5pp)
出版年月 2008年2月 
出版者
和文: 
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会議名称
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開催地
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DOI https://doi.org/10.1088/0268-1242/23/4/045002

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